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    KRI 霍爾離子源典型應用 IBAD 輔助鍍膜
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    KRI 霍爾離子源典型應用 IBAD 輔助鍍膜

     美國 KRI 離子源應用于蒸鍍直徑 1.5m 天文望遠鏡鏡片全反射膜
    上海伯東代理美國 KRI 大尺寸霍爾離子源 EH 3000 HC, 離子束具有業界中最高廣角的涵蓋面積及最高密度的離子濃度, 在離子輔助鍍膜工藝中 Ion Beam Assisted Deposition, IBAD 可以獲得高均勻性及高致密性的膜層. EH 3000 HC 近日成功應用于直徑 2.2m 蒸鍍機, 用于蒸鍍 1.5m 天文望遠鏡鏡片. 通過使用上海伯東 KRI 離子源鍍全反射膜, 高均勻性及高致密性的膜層可以保障光源有效反射, 盡可能減少吸收. 直徑 2.2m 鍍膜腔, 僅需安裝1臺 EH 3000 HC 霍爾離子源, 即可完成鍍膜, 直接降低企業成本!
    霍爾離子源,蒸發鍍膜
    上海伯東離子源蒸鍍典型案例: 根據客戶 2.2m 鍍膜腔體尺寸, 基材尺寸和工藝條件, 推薦選用霍爾離子源 eh3000 HC, 配置中空陰極, 中和器, 自動控制器
    1. 設備: 2.2m 蒸鍍鍍膜機.
    2. 基材: 1.5m 天文望遠鏡鏡片鍍鋁 Al, 最外層鍍一層二氧化硅 SiO2, 做為保護膜
    3. 離子源條件: Vb:120V ( 離子束陽極電壓 ), Ib:14A ( 離子束陽極電流 ), O2 gas:45sccm( 氧氣 ).
    4. 離子源應用: 天文望遠鏡鏡片鍍全反射膜, 約3個小時; 保障光源有效反射, 盡可能減少吸收.

    霍爾離子源 EH 3000 HC 主要技術參數

    離子源

    尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
    放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
    可通氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2,
    離子束發散角度:> 45° (hwhm)
    水冷

     離子源
    KRI 離子源控制器類似應用: 汽車頭燈模塊鍍全反射膜, 使發光源的光全部反射出去照亮

    美國 KRi 霍爾離子源憑借高密度的離子濃度, 廣角度涵蓋面積的離子束, 可控制離子的強度及濃度, 已廣泛應用于離子輔助鍍膜 IBAD , 獲得高質量的膜層. 上海伯東美國 KRi 霍爾源可依客戶鍍膜機尺寸, 基材尺寸及工藝條件選擇對應型號: EH 400, EH 1000, EH 2000, EH 3000.

    1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

    鑒于客戶信息保密, 若您需要進一步的了解離子源鍍膜案例, 請參考以下聯絡方式
    上海伯東: 葉小姐                                  臺灣伯東: 王小姐
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