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    KRI 考夫曼離子源 KDC 100
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    KRI 考夫曼離子源 KDC 100

    KRI 考夫曼離子源 KDC 100
    上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 100 中型規格柵極離子源, 廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中, 考夫曼離子源 KDC 100 采用雙陰極燈絲和自對準柵極, 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 400 mA.

    KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術參數:

    型號

    KDC 100

    供電

    DC magnetic confinement

     - 陰極燈絲

    2

     - 陽極電壓

    0-100V DC

    電子束

    OptiBeam™

     - 柵極

    專用, 自對準

     -柵極直徑

    12 cm

    中和器

    燈絲

    電源控制

    KSC 1212

    配置

    -

     - 陰極中和器

    Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

     - 安裝

    移動或快速法蘭

     - 高度

    9.25'

     - 直徑

    7.6'

     - 離子束

    聚焦
    平行
    散設

     -加工材料

    金屬
    電介質
    半導體

     -工藝氣體

    惰性
    活性
    混合

     -安裝距離

    8-36”

     - 自動控制

    控制4種氣體

    * 可選: 可調角度的支架

    KRI 考夫曼離子源 KDC 100 應用領域:
    濺鍍和蒸發鍍膜 PC
    輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
    表面改性, 激活 SM
    離子濺射沉積和多層結構 IBSD
    離子蝕刻 IBE

    其他產品
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