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    KRI 考夫曼離子源 KDC 10
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    KRI 考夫曼離子源 KDC 10

    KRI 考夫曼離子源 KDC 10
    上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號的離子源. 適用于集成在小型的真空設備中, 例如預清洗, 離子濺射, 離子蝕刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氬氣時離子蝕刻的能力顯著提高.KDC 10 離子源低損傷, 寬束設計, 低成本等優點廣泛應用在顯微鏡領域, 標準配置下 KDC 10 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 10mA.

     KRI 考夫曼離子源 KDC 10 技術參數

    型號

    KDC 10

    供電

    DC magnetic confinement

     - 陰極燈絲

    1

     - 陽極電壓

    0-100V DC

     - 柵極直徑

    1cm

    中和器

    燈絲

    電源控制

    KSC 1202

    配置

    -

     - 陰極中和器

    Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

     - 架構

    移動或快速法蘭

     - 高度

    4.5'

     - 直徑

    1.52'

     - 離子束

    集中
    平行
    散設

     -加工材料

    金屬
    電介質
    半導體

     -工藝氣體

    惰性
    活性
    混合

     -安裝距離

    2-12”

     - 自動控制

    控制4種氣體


    KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應用領域
    離子清洗, 顯微鏡拋光 IBP
    濺鍍和蒸發鍍膜 PC
    輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD
    表面改性, 激活 SM
    離子濺射沉積和多層結構 IBSD
    離子蝕刻 IBE

    其他產品
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